光応用加熱装置『フラッシュランプアニール装置』

大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装…

『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

フラッシュランプアニール装置『SUS980シリーズ』

ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置！大面積で一括照射、…

『SUS980シリーズ』は、結晶化、剥離、酸化膜形成などの用途にお使いいただける フラッシュランプアニール装置です。 ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御することで、 ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec)。 ワークサイズに応じて、...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

第三の光加熱源！LEDアニール装置

加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

ウシオの光で出来ること『不純物拡散』

ウシオの光で出来ること『不純物拡散』

熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い 　その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし 　ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 　極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニー...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

光加熱　総合カタログ

高効率なエネルギー源！赤外線ハロゲンヒータなどの光加熱製品をご紹介

る直管形ハロゲンヒータランプ「QIR」、 シリコンウェハの高温加熱装置等に適したサークル形ハロゲンヒータランプ 「QIR Circle」などをラインアップ。 その他にも「フラッシュランプアニール装置　SUS980 シリーズ」と 「LED アニール装置」についてもご紹介しています。 【掲載内容(一部)】 ■光加熱とは ■赤外線ハロゲンヒータ ■赤外線ハロゲンヒータの用途 ■...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）

【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）

スの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社