切削液の腐敗防止でコスト削減！高pHアルカリイオン水生成装置

PR切削液にアルカリイオン水を混ぜるだけで【切削液の腐敗防止】【加工効率を…

「高pHアルカリイオン水生成装置」は廃液なしで、pH13.2の高pHアルカリイオン水を1日80L～240L生成することができる装置です。 高pHアルカリイオン水は【高い浸透性】【冷却性】【水の腐敗防止効果】【洗浄力】といった特長があり、 切削・研削時にクーラント（切削油）に混ぜるだけで加工効率が向上します。 また、高い冷却効果によって加工時に発生する摩擦熱が抑えられるため、工具寿命の延長...

メーカー・取り扱い企業： クール・テック株式会社

Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

PRAEM（アニオン交換膜）式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

【AEM式水電解水素製造装置　3つの特長】 １．高圧・高純度の水素を生成 　　99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 　　水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ 　　ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 　　転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 ２．貴金属不要で低コストを実現 　...

メーカー・取り扱い企業： 三國機械工業株式会社

CMPスラリー(化学的機械的液体研磨剤)

異種材料が混在する半導体基板の平坦化について、お客様のニーズに対応した…

能 ■樹脂研磨用スラリー 研磨特製(単膜)　ポリイミド膜研磨速度　1～2μm/min＠4psi ●ポリイミド膜の熱処理の度合い などにより研磨速度が変化 ●優れた研磨促進剤を使用し、強アルカリ・環境負荷物質などは不使用 ■ＨＤＤヘッド研磨用スラリー ●高いCut Rateと低スメアの両立 ●HDD業界で制限されている不純物基準に対応 (シリコーン、アマイド など)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トッパンインフォメディア