リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超低湿度用防湿庫『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』

PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用！ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…

『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5％RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア（マグネットパッキン式）で、中央支柱がないので、 横長のもの...

メーカー・取り扱い企業： トーリ・ハン株式会社

DP-Fノンメタルイアフラムポンプ” DP-F/Nシリーズ”

半導体産業用：外部タイマー切替エア駆動式ケミカルポンプ

高信頼性・安全設計！次世代薬品供給システム！ フィルトレーションに外部タイマー切替エア駆動式ケミカルポンプ 【特徴】 ■金属イオン流出防止 ■一体型ダイアフラム採用による駆動室、送液室との完全分離 ■金属部品を用いないポンプ構成（タイロッド・ナット類を除く） ■万一、PTFE・ワンピースダイアフラムが破損してもエア室に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤマダコーポレーション

『DP-Fノンメタルシリーズ』半導体産業用ダイアフラムポンプ

エア切替ダイアフラムポンプ

特徴】 ■ダイアフラムポンプDP-FシリーズにPEEKスプールを組み込み、 ノンメタル化したもの ■万一、PTFE・ワンピースダイアフラムが破損しても、エア室にも 金属部は皆無であり、金属イオンの汚染がない ■シール仕様は 、標準シールとラバーサスシールがあり、選択可能 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード　 もしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤマダコーポレーション

『DP-Fシリーズ』化学工業用ケミカルポンプ”DP-Fシリーズ”

クリーンルームでの使用に好適！ケミカルポンプDP-Fシリーズ

ムポンプ ■強酸・強アルカリ液などの移送にもすぐれた耐食性を持つ ■エア切替部などの本体主要部にも樹脂（PPS、PP、 HDPE）を使用、 半導体産業等のクリーンルーム内での使用における金属イオンによる 汚染を防止、また腐食性の雰囲気の中での使用も可能 ※詳細は、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤマダコーポレーション