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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中!】 導電性フィルムや、全固体…
当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...
メーカー・取り扱い企業: 日榮新化株式会社
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業界トップクラスの基本性能
採用による低消費電力化を実現 •コンパクト設計 設置面積 0.17m2 縦置き・横置き選択可能 •2段積み可能(吸気口向き水平のみ) A103P •ミディアムプロセス向け(エッチャー、イオン注入、PVDなど) •省エネ、省スペース A4シリーズ •マルチルーツ構造、高効率モーターよる低消費電力化を実現 •ヒーター温度制御による、副生成物の堆積物を抑制 •耐腐食用ニッケル...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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*ロータリーポンプPascalシリーズ / 2 段式ステージ
業界トップクラスの基本性能
リーズ:研究開発や分析機器用途 •質量分析計、電子顕微鏡 などの粗引き用途 C1シリーズ:腐食性用途 •研究開発、実験、凍結乾燥、溶剤排気などの用途 C2シリーズ:腐食性用途 •イオン注入、スパッタリング装置などの用途 HWシリーズ: ウェットガス用途 •凍結乾燥、真空乾燥、化学研究、滅菌、ロードロックなど...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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