リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ピコ秒（ps）分解能で長い時間差を作る／測る

PRT560 ディレイ／パルス発生器で時間差を作り、MCS8A マルチスト…

◆T560 ディレイ／パルス発生器 　・ディレイ時間とパルス幅が4チャンネル個別に指定でき、10ps刻みで最大10 秒まで設定可能 　・入出力遅延（インサーション・ディレイ）：21ns 　・最大トリガ・レート：16MHz ◆MCS8A マルチストップTDC/TOF 　・複数のイベントタイムを記録できる8入力のデジタイザ 　・STARTとSTOPの間の時間差を、80psの分解能で最大8....

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

イオンエネルギー測定器

エッチングやスパッタ、成膜プロセス中のイオンエネルギーの測定ができます…

、実プロセスと同条件でプラズマの最適化が行えます。各種のバイアス条件(フローティング、DC、パルスDC、RF)下で測定ができます。 プラズマ放電中のプロセス内で以下の測定が可能です。 - イオンエネルギー分布 - イオンフラックス - イオンカレント - エレクトロンフラックスとエネルギー ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

高周波計測器

RF計測器 / チャンバー内のRFを高精度に測定が可能

・１％の精度で測定が可能。 ・1μsの時間分解能で測定が可能 ・単周波数のみでなく、複数の周波数が測定可能 　（Ocye Poly Octiv Suite） ・イオンフラックスが測定可能　（Octiv Suite）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー