リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ピコ秒（ps）分解能で長い時間差を作る／測る

PRT560 ディレイ／パルス発生器で時間差を作り、MCS8A マルチスト…

◆T560 ディレイ／パルス発生器 　・ディレイ時間とパルス幅が4チャンネル個別に指定でき、10ps刻みで最大10 秒まで設定可能 　・入出力遅延（インサーション・ディレイ）：21ns 　・最大トリガ・レート：16MHz ◆MCS8A マルチストップTDC/TOF 　・複数のイベントタイムを記録できる8入力のデジタイザ 　・STARTとSTOPの間の時間差を、80psの分解能で最大8....

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

【光学薄膜製品】短納期、高品質、小ロットから対応　が自慢です！

短納期（１０日）で、検査の厳しい高品質な製品を、小ロットの試作から　製…

ある基板にも蒸着可能！ →１０μm程度の厳しい基準でも検査可能！ →検査の厳しい医療関連・光学画像関連部品も取扱い有！ →多種多様な蒸着装置・方法を駆使し、ご要望にお応え！ 　・ＲＦ印加、イオンアシスト、プラズマアシスト、真空蒸着の４種 　・硬い膜・緻密な膜・均一な膜の成膜可能 →高品質の無偏光ＢＳや高レーザー耐性膜も蒸着可能！ →透明導電膜（ITO、GZO、InO2等）も実績有！...

メーカー・取り扱い企業： CBCオプテックス株式会社