• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    マイクロ粒子のシート化技術

    PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中!】 導電性フィルムや、全固体…

    当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...

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    メーカー・取り扱い企業: 日榮新化株式会社

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    ハイドロフローの温泉水処理

    電磁式水処理装置のスケール対策としての温泉水処理事例紹介

    7.83 ■全硫化物:0.01 ■カドミニウム:<0.01 ■カルシウム as CaCO3:94.3 ■全鉄:0.15 ■水銀:ND ■酸消費量(pH4.8):2270 ■ナトリウムイオン:3350 ■砒素:ND ■硫酸イオン:19.2 ■マグネシウム as CaCO3:48 ■塩化物イオン:5910 ■カリウムイオン:15.0 ■ランゲリア指数:+1.4 ※詳し...

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    メーカー・取り扱い企業: 日本セルポ株式会社

  • 赤水対策(ホテルの給湯)【磁気式水処理装置Vol.12】 製品画像

    赤水対策(ホテルの給湯)【磁気式水処理装置Vol.12】

    赤水は完全に止まり水が透明になり、トラブルが解消した事例をご紹介します…

    給湯赤水対策としてのポーラーの効果は、どのようなものであるかの 確認を行いました。 大型ビルやホテルの給湯ラインは10年以上経過すると水中の溶存酸素・ 塩素イオン及びpHが原因となりパイプライン内面に腐食が進行し、 給湯や風呂の水がサビの為赤水となって営業上重大なトラブルとなります。 このようなトラブルに対してポーラーは薬品の投入無しで腐食の進行を...

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    メーカー・取り扱い企業: 日本セルポ株式会社

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