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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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あらゆる素材の目に見えない微細な表面欠陥、割れ、ピンホールを容易に見つ…
上がらせるため、傷を正確に発見できます。 1.洗浄 洗浄液を使用し、検査部の油脂や汚れを除去して乾燥させます。 2.浸透 浸透液を塗布して5~10分間放置します。 3.除去 洗浄液を含ませたウエスで余分な浸透液を拭き取ります。 4.現像 現像液を均一に塗布します。10~30分で欠陥部が赤色で指示されます。...
メーカー・取り扱い企業: ギガ・セレクション(ギガセレクション) 株式会社ジーネット
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