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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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120℃までの高温の金型の洗浄に!プラスチック成形中の頑固なガスヤニの…
【使用方法】 ・頑固な汚れは、金型面に直接吹き付け2~3分間放置した後、 ウエス、エアー、捨て打ち等で汚れを除去してください。 ・軟質な汚れは金型に直接吹き付け、汚れを洗い流してください。 ・揮発しづらい通常のガス膜除去剤とは異なり、ガス膜を溶解洗浄後は 乾燥しますの...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社中部
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