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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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軟質被膜タイプ『屋外保管用防錆剤』鋼製金型・型枠・仮設機材に好適
塗布した後に乾燥し安定した軟質被膜を形成!屋外で3~6カ月の防錆性能を…
容易に塗布可能(常温で流動性がある) 塗布後1~2日で表面のベトつきがなくなり、乾燥して安定した軟質被膜を形成します。 <使用方法> ■ 塗布面に付着している水分・ゴミ・汚れ・錆などをウエス等で取り除く ■ 噴霧器・刷毛またはローラーでムラなく塗布する ■ 塗布量は10~15m2/Lが目安 ■ 晴天時は約1~2日で塗布面が乾燥します ■ 被膜除去には灯油などを使用してウエス等...
メーカー・取り扱い企業: 中国興業株式会社
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