• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』 製品画像

    法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』

    PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…

    「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット) 製品画像

    CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット)

    熱CVD装置の排気に実績多数。Cl系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

    スの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱CVD装置の塩素系ガスの排気系に有効で工具や金型・半導体用治具の生産に多数使用中。 Siエピタキシャル成長時やエッチング時のの塩素系ガスの排気にも応用可能。 主ポンプのの水封式真空ポンプもALLステンレス製を採用し耐食性にも優れた専用真空排気システム...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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