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    高効率プリント基板搬送システム【GENIUS】

    PR【GENIUS】は搬送、製品のバッファリング/アキュームレーション等様…

    FlexLink が提供します【GENIUS】高効率プリント基板搬送システムは、製品範囲全体に標準アセンブリ機能を組み込んだ プリント基板ハンドリング ユニットの完全なラインを提供します。 すべてのモジュールは CE マークを取得しています。 【GENIUS】基板搬送システムには完全に独立したモジュール式のスタンドアロン ユニットが組み込まれています。 各モジュールにはオンボード制御システムが搭...

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    メーカー・取り扱い企業: ジーディー自動機械株式会社 フレックスリンク事業部

  • 高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中 製品画像

    高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中

    PR【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…

    『HND-RA』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85%の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0~1.0、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サタコ

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    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 排気配管内N2ヒーター(コントローラ内蔵型) 製品画像

    排気配管内N2ヒーター(コントローラ内蔵型)

    配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

    半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用N2ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...CVD装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

    メーカー・取り扱い企業: エヴァンリード株式会社

  • トランスファーロッド(Z-φ軸 KTXシリーズ) 製品画像

    トランスファーロッド(Z-φ軸 KTXシリーズ)

    【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

    真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離(500mm~1000mm)での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

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