処理効率は98％以上のアンモニア分解装置！省エネルギーを実現

PR某化学メーカー等、導入実績多数！　排ガスの風量に合わせて小風量～大風量…

当製品は、NH3を使用した試験を実施されており、 その排ガスを処理する試験用アンモニア分解装置です。 処理効率は98％以上で、自社製バーナを使用しており、安全に処理します。 また高濃度のアンモニアの場合は、直接燃焼することも可能です。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■某化学メーカー等、導入実績多数有り ■排ガスの風量に合わせて小風量～大風量まで対応可能 ■省スペース、省エネル...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

脱炭素化技術に挑戦！熱技術研究所のご紹介【2024最新情報！】

PR開設１周年！約80社のお客様にご来場いただきました。水素燃焼ガスバーナ…

２０２３年５月に開所した「熱技術研究所」、この一年で数多くのテストを行ってまいりました。 ～テスト設備概要～ ◇アルミ手許溶解保持炉 水素燃焼溶解による「溶湯品質」「溶解効率」を検証テストが可能。実機ベースのアルミ溶解炉です。 溶解能力：150kg/h 溶解：水素燃焼ガスバーナー 保持：電気ヒーター ◇塗装乾燥炉（試験設備） 実際の生産現場と遜色ない設備を使い、4 つの熱源でテストが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社正英製作所

ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…

ＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くＣＶＤに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

電子ビームによる各種材料の蒸発とアークフィラメント式イオン化法により安定して反応膜生成膜（窒化膜・酸化膜・炭化膜）を形成。 成膜レートも反応ガス流量のみで制御。シンプルで信頼性の高いハードにより最新の成膜プロセスを提供 充実の成膜プロセス ・耐プラズマ性イットリア膜（１０μｍ） ・耐酸化性硬質膜ＳｉＣ（７μｍ） その他従来型硬質...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自高密度スパッタ法　アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理（トライボロジー用途）への応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店