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Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応!デモ機常設!…
『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高い歩留りと稼働率が特長です。 【特長】 ■nmレベ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…
クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大8インチ相当のウェハや各種基板に対応。CtoCシステム採用による自動化&クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気(不活性、酸化、還元)雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...Siウェハへの対応を基本とし...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)
UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を…
UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でU...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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