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半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…
SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...成膜 ・PBII(Plasma Based Ion Implantation) カーボン成膜が可能 ・スパッタ 電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA(Rapid thermal annealing) 縦型高周波誘導加熱方式により、~1800度...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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