干渉リソグラフィ

パターンは感光性材料に記録される！マスクやスキャンプロセスの必要がない

『干渉リソグラフィ』は、パラレル工程(2本のレーザー光同士の干渉)により 広範囲においてマイクロ構造を形成できる工法です。 スプリッタで分割したUVレーザを拡大・露光し、干渉縞を形成。 また、基板を回転させてレーザの干渉を調整することで、 形成したいパターンの形を変化させることができるため、 マスクやスキャンプロセス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イノックス