•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R) 製品画像

    【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R)

    PRセラミックの中でも抜群の高熱伝導率性を有する窒化アルミ基板と特殊な発熱…

    ワトローウルトラミック(R)は、半導体や電気自動車(EV) 等の開発において、好適なパフォーマンスを提供する窒化アルミヒーターです。 高い熱伝導性、急速な温度変化への対応能力、高温時でも安定した電気的特性、そして正確な温度制御が可能な熱電対内蔵構造を持つ当ヒーターは、高度な熱処理ニーズに応えます。 【特長】 ○熱伝導性の高い窒化アルミ基板を採用 ○急速昇温(最大150℃/sec)・急速降温に対応...

    メーカー・取り扱い企業: 坂口電熱株式会社

  • プラズマ処理効果を「色で見える化」!セラミックタイプ 製品画像

    プラズマ処理効果を「色で見える化」!セラミックタイプ

    プラズマの処理強度や処理時間に応じて連続的に変色しますので、プラズマ処…

    プラズマ処理効果の評価ツールとして、2014年の発売以来、 お客様の用途に応じてラインアップを拡充してきた「PLAZMARK(R)」。 このたびご要望の多かったウエハプロセス向け製品の第1弾として 『PLAZMARK(R) "ウエハ型" セラミックタイプ』が登場! 電子デバイスのエッチングやアッシングなど、 ウエハプロセスの面内分布等の評価にご利用いただけます。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

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