•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R) 製品画像

    【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R)

    PRセラミックの中でも抜群の高熱伝導率性を有する窒化アルミ基板と特殊な発熱…

    ワトローウルトラミック(R)は、半導体や電気自動車(EV) 等の開発において、好適なパフォーマンスを提供する窒化アルミヒーターです。 高い熱伝導性、急速な温度変化への対応能力、高温時でも安定した電気的特性、そして正確な温度制御が可能な熱電対内蔵構造を持つ当ヒーターは、高度な熱処理ニーズに応えます。 【特長】 ○熱伝導性の高い窒化アルミ基板を採用 ○急速昇温(最大150℃/sec)・急速降温に対応...

    メーカー・取り扱い企業: 坂口電熱株式会社

  • 大型プラズマエッチング装置 製品画像

    大型プラズマエッチング装置

    ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

    00mm□までステージを拡大。 大型ステージでファインピッチのエッチング・各種有機物のアッシング・表面改質・クリーニングなど幅広いプロセスに対応 「従来機種EXAM」同様にウェハ・ガラス・セラミック基板のエッチングを行なうと共に大型実装基板・カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理にも実績豊富。 電子デバイスだけでな半導体製造装置部品や材料などくクリーンネスと繊細な表面...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置) 製品画像

    ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置)

    高密度プラズマスパッタで結晶性AlN膜を形成、立体形状への全面コーティ…

    独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法(アーク放電型マグネトロンスパッタリング法)により従来に無い緻密なAlN膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性AlNを500℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置 ...立体毛状基板(機械部品・治工具・金型)対応の従来型硬質膜...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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