•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R) 製品画像

    【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R)

    PRセラミックの中でも抜群の高熱伝導率性を有する窒化アルミ基板と特殊な発熱…

    ワトローウルトラミック(R)は、半導体や電気自動車(EV) 等の開発において、好適なパフォーマンスを提供する窒化アルミヒーターです。 高い熱伝導性、急速な温度変化への対応能力、高温時でも安定した電気的特性、そして正確な温度制御が可能な熱電対内蔵構造を持つ当ヒーターは、高度な熱処理ニーズに応えます。 【特長】 ○熱伝導性の高い窒化アルミ基板を採用 ○急速昇温(最大150℃/sec)・急速降温に対応...

    メーカー・取り扱い企業: 坂口電熱株式会社

  • プラズマ処理効果を「色で見える化」!セラミックタイプ 製品画像

    プラズマ処理効果を「色で見える化」!セラミックタイプ

    プラズマの処理強度や処理時間に応じて連続的に変色しますので、プラズマ処…

    プラズマ処理効果の評価ツールとして、2014年の発売以来、 お客様の用途に応じてラインアップを拡充してきた「PLAZMARK(R)」。 このたびご要望の多かったウエハプロセス向け製品の第1弾として 『PLAZMARK(R) "ウエハ型" セラミックタイプ』が登場! 電子デバイスのエッチングやアッシングなど、 ウエハプロセスの面内分布等の評価にご利用いただけます。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • 気体垂直気体噴流方式のベルヌーイチャック 製品画像

    気体垂直気体噴流方式のベルヌーイチャック

    空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送! ベルヌーイチャック

    圧発生の効果を増し、従来型より大幅に懸垂能力を増加させることで、保持安定元が増し、衝撃に強く、気体消費量をほぼ半減させました。 半導体ウエハ、LCD・PDPガラス基板、、ディスク、プリント・セラミック基板、スルーホール基板、フィルム、紙、不織布、極薄ワーク、通気性ワークを空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送する。...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

  • ウエハー用テフロンコートピンセット(先端テフロンカバー付) 製品画像

    ウエハー用テフロンコートピンセット(先端テフロンカバー付)

    半導体ウエハー・基板等のハンドリング洗浄用に最適

    【特長】 ■テフロンコートで耐薬品性 ■二つ爪でしっかりグリップ ■爪部分はテフロンチューブで対象物のキズを防止 表面全体は、テフロンコート仕上げで耐薬品性があります 表面接触が少ない二つ爪 爪部分をテフロンチューブで被膜してあるため対象物のキズを防止しつつ、 しっかりとグリップできます その他形状の非磁性ステンレス・チタン・カーボン・セラミック・樹脂製ピンセットのお取扱も...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タイセー 本社

  • カーフロスゼロで高速切断!ドライ加工のスクライブ&ブレイク工法 製品画像

    カーフロスゼロで高速切断!ドライ加工のスクライブ&ブレイク工法

    水を使わないスクライブ&ブレイク工法!ガラスやセラミックなどの硬脆性材…

    三星ダイヤモンド工業の「スクライブ&ブレイク工法」は、ガラス(Glass)、アルミナ(Al2O3)、シリコンカーバイト(SiC)、サファイア(Sapphire)、シリコン(Si)などを基材に金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を切断加工(個片化)する技術です。  独自の技術である「スクライブ&ブレイク」によって、カーフロスゼロ・高速・高品質・完全ドライ加工を実現します。製品取数の増...

    メーカー・取り扱い企業: 三星ダイヤモンド工業株式会社

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