真空チャンバーホットプレート　PH222

低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現！

PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ（加熱条件により、水冷が必要です）。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0％、プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。 真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

ハロゲンランプ加熱装置　PR410

高速昇温による温度評価に最適です！！

最高温度は600℃。温度モニター機能付きです。チャンバー部は窒素雰囲気（充填式）です。昇温スピードは10℃/sec、温度分布は±5％です。...【ハロゲンランプ加熱装置　PR410】 ◆PR410のスペック（標準タイプ）◆ 温度設定範囲：室温-600℃ ヒーター容量：10KW、AC200V 均熱板部：耐熱合金、サイズ200×200(mm) チャンバー部：窒素雰囲気、耐熱ガラスチャ...

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高温窒素パージホットプレート　「PH-212-600型」

窒素パージ高温（600℃）対応。酸化防止機能が必要な加熱プロセスに最適…

高温窒素パージホットプレート「PH-212-600型」は、窒素パージ高温（600℃）対応の 高温ヒーター仕様です。ダイボンディング、はんだ付けなど、幅広いアプリケーションにも対応（生産、試作、評価、分析など）しています。ワーク、アプリケーションに合わせて、チャンバー構造、ガス噴出しパターンなどがカスタマイズ可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。...【特長】 ○窒素パージ高温（6...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

高速ランプ加熱装置RP-420型

金属、ウエハ等の高速昇温加熱プロセスに！

高速ランプ加熱装置RP-420型は最高温度700℃対応の高速ランプ加熱装置です。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源にハロゲンランプヒータを採用しており、金属プレート等を高速、高温処理プロセス用です。ワークチャンバーは引出プレート式でワークの 供給排出が簡易に行えます。 また操作パネルは、タッチパネルにより、操作性に優れます。排熱タイプは、水冷、空冷の2方式がありま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

工業用ホットプレート　PA2520

最高温度は200℃！サイズ、材質等カスタマイズできます！！

高温加熱工程、プロセス評価用途に。...◎最高温度200℃。 ◎サイズ、材質、表面処理など、各種対応。 ◎精密電子制御（PID方式など）、サーモスタット、コントローラーなどにて温度制御方式を選択可能。 ◎薄型、固定式等、各種構造に対応。 ◎その他、チャンバー、固定治具、特殊センサーユニットなど、製作致します！...

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真空チャンバー ホットプレート　「PH221」

簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能！

真空チャンバー ホットプレート　「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート（最高温度200℃）です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0％。プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー