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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…
液晶ディスプレイにおけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置…
液晶パネル製造におけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大き...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…
液晶ディスプレイにおけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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