• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 高加速寿命試験装置(HAST装置)『PC-422R9』 製品画像

    高加速寿命試験装置(HAST装置)『PC-422R9』

    PR優れた性能を誇る二槽式構造のHAST装置。新型コントローラーを搭載し、…

    『PC-422R9』は、試験槽と蒸気発生槽が完全に分離独立した高加速寿命試験装置(HAST装置)です。 高精度温湿度プログラムコントローラーを搭載し、HAST装置としてより高精度な加速評価を実現。また、外部端末と連携した遠隔操作も実現し、簡単に監視・操作ができます。 【特長】 ■新型温湿度プログラムコントローラーで、高精度な加速評価を実現。 ■対話式カラータッチパネルで、より操作性...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社平山製作所

  • 真空チャンバーホットプレート PH222 製品画像

    真空チャンバーホットプレート PH222

    低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現!

    PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ(加熱条件により、水冷が必要です)。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0%、プログラム式温度コントローラー(別売)により、温度プログラム設定が可能です。 真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくは...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

  • ハロゲンランプ加熱装置 PR410 製品画像

    ハロゲンランプ加熱装置 PR410

    高速昇温による温度評価に最適です!!

    最高温度は600℃。温度モニター機能付きです。チャンバー部は窒素雰囲気(充填式)です。昇温スピードは10℃/sec、温度分布は±5%です。...【ハロゲンランプ加熱装置 PR410】 ◆PR410のスペック(標準タイプ)◆ 温度設定範囲:室温-600℃ ヒーター容量:10KW、AC200V 均熱板部:耐熱合金、サイズ200×200(mm) チャンバー部:窒素雰囲気、耐熱ガラスチャ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

  • 高温窒素パージホットプレート 「PH-212-600型」 製品画像

    高温窒素パージホットプレート 「PH-212-600型」

    窒素パージ高温(600℃)対応。酸化防止機能が必要な加熱プロセスに最適…

    高温窒素パージホットプレート「PH-212-600型」は、窒素パージ高温(600℃)対応の 高温ヒーター仕様です。ダイボンディング、はんだ付けなど、幅広いアプリケーションにも対応(生産、試作、評価、分析など)しています。ワーク、アプリケーションに合わせて、チャンバー構造、ガス噴出しパターンなどがカスタマイズ可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。...【特長】 ○窒素パージ高温(6...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

  • 高速ランプ加熱装置RP-420型 製品画像

    高速ランプ加熱装置RP-420型

    金属、ウエハ等の高速昇温加熱プロセスに!

    高速ランプ加熱装置RP-420型は最高温度700℃対応の高速ランプ加熱装置です。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源にハロゲンランプヒータを採用しており、金属プレート等を高速、高温処理プロセス用です。ワークチャンバーは引出プレート式でワークの 供給排出が簡易に行えます。 また操作パネルは、タッチパネルにより、操作性に優れます。排熱タイプは、水冷、空冷の2方式がありま...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

  • 工業用ホットプレート PA2520 製品画像

    工業用ホットプレート PA2520

    最高温度は200℃!サイズ、材質等カスタマイズできます!!

    高温加熱工程、プロセス評価用途に。...◎最高温度200℃。 ◎サイズ、材質、表面処理など、各種対応。 ◎精密電子制御(PID方式など)、サーモスタット、コントローラーなどにて温度制御方式を選択可能。 ◎薄型、固定式等、各種構造に対応。 ◎その他、チャンバー、固定治具、特殊センサーユニットなど、製作致します!...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

  • 真空チャンバー ホットプレート 「PH221」 製品画像

    真空チャンバー ホットプレート 「PH221」

    簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能!

    真空チャンバー ホットプレート 「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート(最高温度200℃)です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0%。プログラム式温度コントローラー(別売)により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

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