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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃
PR有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。 固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)用セルと高温加熱(~ 1500℃)セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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世界で初めての精密マイクロ波反応装置
マイクロ波化学プロセスの更なる高度化、精密化を目指して半導体HPAマイクロ波源と楕円集中照射式チャンバーの組み合わせによる精密小型マイクロ波高速反応装置です。...【特徴】 ○高純度の正弦波 ○正確な入力コントロール ○μSec.interval ○長寿命 ○高効率な集中照射 ○正確な温度制御 ○迅速な化学反応 ○軽い、コンパクト、フレキシブル ○他の機器との連携 ○キャビティ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ミネルバライトラボ
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高加速寿命試験装置(HAST装置)『PC-422R9』
優れた性能を誇る二槽式構造のHAST装置。新型コントローラーを…
株式会社平山製作所 -
真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
ギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可…
ユニテンプジャパン株式会社