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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空貼合装置
チャンバー蓋開閉:ヒンジ式 加圧力:40kgf ロードセル:有り Z軸:自動 真空計:ピラニー ヒーター:有り ・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。 ・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。 ・上下ステージはMax120℃のヒーター内蔵。 ・貼り付け動作は精密Zステージを電動操作。 ・ロギン...
メーカー・取り扱い企業: 常陽工学株式会社
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研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空ラミネーター
チャンバー蓋開閉:ヒンジ式 加圧力:40kgf ロードセル:有り Z軸:手動 真空計:ピラニー ヒーター:無し ・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。 ・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。...基板サイズ:20mm×20mm~120mm×120mm 上ステージ:石英(UV照射エリア110mm...
メーカー・取り扱い企業: 常陽工学株式会社
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研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空ラミネーター
チャンバー蓋開閉:分割式 加圧力:40kgf ロードセル:有り Z軸:手動 真空計:ピラニー ヒーター:無し ・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。 ・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。...基板サイズ:20mm×20mm~120mm×120mm 上ステージ:石英(UV照射エリア110mmロ...
メーカー・取り扱い企業: 常陽工学株式会社
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研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空ラミネーター
チャンバー蓋開閉:ヒンジ式 加圧力:4kgf ロードセル:無し Z軸:手動 真空計:プルドン ヒーター:無し ・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。 ・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。...基板サイズ:20mm×20mm~120mm×120mm 上ステージ:石英(UV照射エリア110mmロ...
メーカー・取り扱い企業: 常陽工学株式会社
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研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空ラミネーター
チャンバー蓋開閉:分割式 加圧力:4kgf ロードセル:無し Z軸:手動 真空計:プルドン ヒーター:無し ・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。 ・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。...基板サイズ:20mm×20mm~120mm×120mm 上ステージ:石英(UV照射エリア110mmロ)...
メーカー・取り扱い企業: 常陽工学株式会社
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