電源装置『HiPIMS用パルス電源』

高密度のプラズマを生成し、高いイオン化率により高品質の成膜をする方法を…

率を著しく高めることにより、 表面平滑性、硬度、密着性の向上、緻密な膜ができる等の様々な利点があります。 【特長】 ■高密度のプラズマを生成 ■高いイオン化率により高品質の成膜 ■バイポーラパルスによるアーク異常放電の抑制 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社