【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

）、プリント基板（PCB）、フラットパネルディスプレイ（LCD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程は...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社