フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

フォトレジストの研究開発用露光ツール！ フォトプロセス解析用露光装置シリーズ ■□■ラインナップ■□■ ■UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） ■UVES-2500 （g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置） ■ArFES-3500LP（193nm対応解析露光装置） ■VUVES-4500mini（248・193n...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

）、プリント基板（PCB）、フラットパネルディスプレイ（LCD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程は...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

ウェットバス監視分析計『TALYS ADP300シリーズ』

昨今の製造ニーズにお応え！低コストで高精度なウェットバス監視分析計

『TALYS ADP300シリーズ』は、ウェットエッチング、クリーニング、 またはフォトレジスト(PR)除去プロセスのリアルタイム、バッチ式、または シングルウエハツールの監視に適したデュアルチャンネル分析システムです。 リアルタイムでの薬液濃度監視によって、オペレータおよび技術...

メーカー・取り扱い企業： ABBジャパン

レジスト現像アナライザ RDAリシーズ

フォトレジスト現像速度解析評価装置

レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメータを正確に決定することができます。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

半導体・高純度化学品・純水用低価格継手（ジョイント・コネクタ）

簡単確実に接続

た継手です。100%金属フリーでありながら、継ぎ手の両側に自動閉塞弁を有しています。またロータリー機構を有し、確実な接続をクリック音で知らせます。 高純度化学品・高腐食性化学品・純水・一部のフォトレジストのハンドリングに適しております。Oリングにオイルは使用しておりません。内部バネはPEEK製、OリングはChemraz(パーフロ）を使用。 従来のフッ素系樹脂・PVDF製品に比べ割安です。（当...

メーカー・取り扱い企業： CPC（コールダー・プロダクツ・カンパニー） スウェップジャパン株式会社CPC製品事業藤沢事務所

フォトレジスト剥離液中の剥離剤の定量【電位差自動滴定装置】

TMAHと炭酸塩を分別定量した例について紹介！測定条件例および測定結果…

TMAHは塩酸標準液による中和滴定によって定量することができます。 また、TMAHは空気中の炭酸ガスを吸収し炭酸塩を生成すると、塩酸標準液に より滴定したときpH4付近にもう一つの滴定終点を示す滴定曲線となります。 当アプリケーションデータでは、TMAHと炭酸塩を分別定量した例について 紹介します。 【掲載内容】 ■測定の概要 ■装置構成および試薬 ■測定手順 ■測定...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA

塩化バリウム添加法による炭酸塩の定量【電位差自動滴定装置】

塩化バリウムを添加して炭酸塩を測定する方法について紹介！測定手順などを…

液晶表示器用基板などの現像終了後の基板に残ったフォトレジストの 剥離剤としては、強アルカリ溶液が用いられます。 TMAHは塩酸標準液による中和滴定によって定量することができ、 空気中の炭酸ガスを吸収し炭酸塩を生成すると、塩酸標準液により 滴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA