半導体・電子材料用　高純度溶剤　実績多数【サンプル進呈】

半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤…

半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほ...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社

半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』

【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリ…

■グリコールエーテル 低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。ま...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社

電子材料用　高純度溶剤（PGME、PGEE、Diglyme）

【サンプル進呈】金属含有量pptレベルの電子材料用溶剤の製造実績多数有…

8900トリプル四重極 ICP-MSを保有 　　　　　　シングルpptレベルの分析が可能 ・生産設備：高純度品の生産が可能な設備を保有 ・使用例　：半導体製造プロセス用洗浄剤、半導体用フォトレジスト、半導体用反射防止膜 ※PDF資料をダウンロードのうえ、お気軽にご相談ください。 ◆金属管理した界面活性剤についても提供可能です。 　電子材料用界面活性剤『FG-68G04』のペ...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社