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【シロキサンフリー】半導体チップ搬送ケース『ゲルベースVタイプ』
PR半導体チップや精密デバイスなどを振動から守り 安全に保管・搬送!シロキ…
ゲルベースは半導体チップや精密デバイスなど細かな部品の工場内、工程内搬送、海外搬送用として使用できます。 搬送時は振動から精密部品を守り、また半導体等部品のデバイス固定用としても大活躍。 粘着材不使用・シロキサンフリーで安心してご使用いただけます。 搬送時は部品をしっかり固定し、真空装置で真空引きすることで簡単にピックアップできます。 【特長】 ■精密部品を搬送時の振動などから守り、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エクシール 本社
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PR長物野菜と葉物野菜に対応したコンピュータ制御の高性能包装機です
野菜包装機「PAW-6000B」は最新横ピロー野菜包装機です。 野菜には、水気や土が付いてきます。 フイルムで水気や土ごと野菜を包装できる逆ピロー包装機が好適です。 【特徴】 ○自動測長:PAMS機能(オプション) 自動的に長さや形にばらつきのある野菜の長さを測長し、それぞれに合った袋長さで包装します。 ○製品供給コンベア部分には、野菜を傷つけないサイドベルトを使用。 詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 日本ポリスター株式会社
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金属特有の深みのあるスクラッチフリーの光沢面に!
デン・タングステン・クロミウム・チタニウム・ニッケルなどの特殊合金の研磨に適したポリシング材です。 『FZ』使用時には硬質ウレタンパッドや研磨用ピッチを用いると金属特有の深みのあるスクラッチフリーの光沢面が得られます。 また、光学レンズのファイナルポリシングに「FZ-02」を使用すると、スクラッチフリーで「荒れ」のないレンズ面や「ウェーブ」を取り除いた鮮やかな干渉縞も。 【用途】 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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より高い平坦性、ダメージフリー、重金属汚染フリーなど完全鏡面の要求にお…
『GLANZOX』は、コロイダルシリカを特殊組成液に分散させ優れた研磨面の実現を可能にしました。 近年、デバイス特性に影響する金属不純物についても厳しい低減要求がなされています。これに対し超高純度コロイダルシリカを開発。 ウェーファー端面を鏡面に仕上げる専用のポリシング材「GLANZOX Eシリーズ」などをご用意しております。 【特長】 ■コロイダルシリカを特殊組成液に分散 ■優...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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《高純度・高加工能率・高分散・スクラッチフリー》を求める方に適した研磨…
度化するULSIデバイスの平坦工程に取り入れられたCMP(Chemical Mechanical Planarization)技術に使用されるポリシング材で、高純度、高加工能率、高分散、スクラッチフリーを基本コンセプトに開発された製品です。 【PLANERLITEシリーズの紹介】 ■PLANERLITE‐4000:SiO2膜(層間絶縁膜、STI)を対象とするポリシング材 ■PLANER...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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高能率でダメージフリーの研磨面が得られる!サファイアなどの電子材料基盤…
『COMPOL』は、サファイアなどの電子材料基盤、金属材料およびセラミックスのポリシング専用に開発された高純度コロイダルシリカスラリーです。 粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨面が得られます。 【掲載内容】 ‐COMPOLの代表的物性 ・SiO2量 ・PH ・比重 ・平均粒子径 ・標準入数 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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銅・アルミニウム・ステンレス・チタニウムなどの一般金属向け!
鏡面仕上げ材『CLEALITE』は、一般金属向け鏡面仕上げ材です。 “2340”は特殊組成液とともにメカノケミカルポリシング作用にて、10nm(Rmax)の表面粗さとスクラッチフリーの表面に仕上げることが可能なポリシングスラリーです。 “S”は分散性の良いシリカパウダーをベースに、選択加工を抑制する組成液をバランスよく配合した金属材料専用のファイナルポリシングスラリーと開発...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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コンタクトレンズ、軟質金属の研磨に使用可能なアルミナ研磨材
『FAL』は、高純度のアルミナ研磨材です。 常に安定した粒度分布と高純度を保ち、優れたポリシング性能とスクラッチフリーの面をお約束できます。 【用途】 ■コンタクトレンズ ■半導体結晶 ■アルミニウムや銅などの軟質金属 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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