【技術資料】焼成依頼前に必読！材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲

PR【研究・開発・OEM向け】焼成依頼前に知っておくと便利な《炉の設備×温…

焼成依頼に役立つ『炉×温度×材料の対応範囲』について紹介した本資料は、「大気焼成炉の対応温度とその実績」や「雰囲気焼成炉の対応温度とその実績」、「所有炉の対応温度」などを図を使いながら分かりやすく紹介した資料です。 【掲載内容】 ■よくあるお悩み事 ■加工実績例 ■大気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■雰囲気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■所有炉の対応温度 ■分野別の焼成温度域 ■受託加工フロー ...

メーカー・取り扱い企業： 新興窯業株式会社 工場

DrM社製ろ過装置『FUNDAWAVE/FUNDALOOP』

PRペプチド医薬品・バイオ医薬品・飲料製造などの精製濃縮プロセスに好適。簡…

当社では、製薬や飲食料品、電池の陽極製造など様々な分野における UF・MFプロセスの工程改善に貢献するDrM社製ろ過装置を多数取り扱っています。 【特長】 ＜クロスフローろ過システム『FUNDAWAVE』＞ ■平膜を振動させてろ過する工業用クロスフローろ過ソリューション ■ろ材表面のケーキ層形成やTMP(膜間差圧)の上昇を抑制し、高濃度・高粘度な濃縮を実現 ■フィードポンプの小型化...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士フィルター工業 本社

LHe連続フロー型光学用クライオスタット

光学的測定をサポートするLHe連続フロー型光学用クライオスタット

当社では、液体ヘリウムを連続フロー（吹き付け）させてサンプルを冷却する 『LHe連続フロー型光学用クライオスタット』を取り扱っております。 フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価等、光学的測定をサポート。 光導入窓...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルブロック

極低温プローバーシステム

機械式冷凍機を搭載したプローバーステーション

当社では、半導体デバイスの温度依存性を評価する 『極低温プローバーシステム』を取り扱っております。 冷却方式として、液体窒素冷却法・液体ヘリウムリザーバー法・ 液体ヘリウムフロー法・冷凍機法の、どの方法にも対応可能。 お客様の使用目的・仕様に合わせて設計・製作いたしますので ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様（当社で対応できる仕様範囲）】...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルブロック

電子顕微鏡用LHe冷却装置

高倍率下でもサンプルが視野から外れない電子顕微鏡用LHe冷却装置

当社では、CL（カソードルミネッセンス）用に開発された 『電子顕微鏡用LHe冷却装置』を取り扱っております。 液体ヘリウム連続フロー式クライオスタットの技術を応用。 電子顕微鏡は振動を嫌う為、ヘリウムの供給及び戻りのラインに細い ステンレス管を使用しており、外部からの振動を除去します。 さらに冷却によるサンプルホルダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルブロック