• 連続フローマイクロ波リアクター C-Wave PLT 製品画像

    連続フローマイクロ波リアクター C-Wave PLT

    C-Wave PLTは、R&D及びパイロットスケールの開発用に設計され…

    C-Wave PLTは、R&D及びパイロットスケールの開発用に設計された連続フローマイクロ波リアクターです。 自己完結型ユニットとして、または他の機器と統合する装置として供給します。可燃性の溶剤も高圧で操作できます。 連続マイクロ波化学は、多くの化学反応を実行するための優れた方法です。 迅速かつ正確な加熱により、副反応が減少し、収率が向上します。 リアクター内の反応物の量が減少した時は、電力入力制...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイビック・リサーチ

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 1200℃真空マッフル炉『OSK 93TI101』 製品画像

    1200℃真空マッフル炉『OSK 93TI101』

    管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな…

    ・常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバ設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真...

    メーカー・取り扱い企業: オガワ精機株式会社

  • 1500℃真空マッフル炉『OSK 93TI102』 製品画像

    1500℃真空マッフル炉『OSK 93TI102』

    管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな…

    ・常用温度1350°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバー設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと...

    メーカー・取り扱い企業: オガワ精機株式会社

  • 近赤外線加熱 溶着装置『HB-1390』 製品画像

    近赤外線加熱 溶着装置『HB-1390』

    ワークの回転、スライド機能をカット!出力低下がほぼなく使用時間の経過に…

    『HB-1390』は、線集光型ラインヒーターと遮光マスクの組み合わせで (1~5mm)範囲の加熱加工が可能な装置です。 条件設定は、出力、照射時間、遮光マスク幅調整の3点のみ。 操作が容易で、作業者の熟練度に頼らない高い品質再現性を有します。 当社ラボにはテスト機が有りますので、テストを御希望の際には お気軽に御相談ください。 【特長】 ■出力低下がほとんどないため、使用...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイベック

  • ホットウォール雰囲気炉 最高温度 1100 ℃ 製品画像

    ホットウォール雰囲気炉 最高温度 1100 ℃

    最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理

    密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。 所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。 最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。   炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採...

    メーカー・取り扱い企業: オガワ精機株式会社

  • 株式会社セイシン 事業紹介 製品画像

    株式会社セイシン 事業紹介

    工業設備機器を中心により良い現場環境の構築を提供!

     ・シーズヒーター  ・カートリッジヒーター 他 ■粉体機器部門  ・エアノッカー  ・受託粉砕  ・フッ素樹脂コーティング 他 ■化工機部門  ・水封式真空ポンプ  ・スムーズフローポンプ  ・ハンディポンプ 他 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社セイシン 富山本社

  • 卓上型精密管状雰囲気電気炉(真空雰囲気炉)FT-02VAC-15 製品画像

    卓上型精密管状雰囲気電気炉(真空雰囲気炉)FT-02VAC-15

    100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様!重量は約4Kg!1200℃…

    こんなユーザーに朗報!! 「精度高い実験がしたい」 「ガスのフローを一方向に綺麗に流し続けたい」 「昇温速度を更に早くしたい」 「1.5kwコンセントで2台使用したい」 「高価な希少性ガスを使用したい為、出来るだけ極小容積のチャンバーにて雰囲気加熱したい」 手のひらサイズ電気炉シリーズ第4弾! 両側マニホールドに最小外径15Φ(内径12Φ)高純度透明石英管を装着! 長...

    メーカー・取り扱い企業: フルテック株式会社

  • 1200℃石英チャンバー真空マッフル炉『OSK 93TI109』 製品画像

    1200℃石英チャンバー真空マッフル炉『OSK 93TI109』

    常用温度1000℃以下の連続運転に!石英製棚板により庫内空間を有効利用

    『OSK 93TI109』は、管状炉の試料サイズ制限をなくした新たな電気炉です。 石英チャンバ-設計(ドアの内側を含め)により、粉塵による庫内汚染や、 実験中に発生する腐食性ガスによるヒーターの損傷を防ぎ、 実験後庫内の清掃も容易。 マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び 真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。 【特長】 ■常用温度10...

    メーカー・取り扱い企業: オガワ精機株式会社

  • 【反応例】Fisherエステル合成 製品画像

    【反応例】Fisherエステル合成

    フロー型マイクロ波合成装置を用いた反応結果を詳しくご紹介!

    当社の「フロー型マイクロ波合成装置」は、ガラス製の蛇管を通して 対象物(液体)を流しながら全体を温めることができ、複数回の 温める工数が不要になる上に均一に加熱することが可能な装置です。 本装置を用いた、安息香酸のFischerエステル合成反応や、 実験方法などをご紹介致します。 【概要】 ■安息香酸のFischerエステル合成反応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サイダ・FDS 本社

  • 高温管状型雰囲気電気炉 FT-201P-1600 製品画像

    高温管状型雰囲気電気炉 FT-201P-1600

    卓上に置いて即実験!高温小型真空炉として使用可能!

    【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すれば高温真空管状雰囲気炉の完成 ・16パターン×16ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて32×32プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・電源はA.C200V 1P 4Kw 省エネタイプ ・標準でブルドン真空計付き ...『FT-201P-...

    メーカー・取り扱い企業: フルテック株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆ 製品画像

    ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【反応例】Fisher-インドール合成 製品画像

    【反応例】Fisher-インドール合成

    フロー型マイクロ波合成装置を用いた反応結果を詳しくご紹介!

    当社の「フロー型マイクロ波合成装置」は、ガラス製の蛇管を通して 対象物(液体)を流しながら全体を温めることができ、複数回の 温める工数が不要になる上に均一に加熱することが可能な装置です。 本装置を用いて、フェニルヒドラジンとシクロヘキサノンのFischer インドール合成反応によりテトラヒドロカルバゾールを生成した反応結果や、 実験方法などをご紹介致します。 【概要】 ■フェ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サイダ・FDS 本社

  • 【反応例】Diels-Alder反応 製品画像

    【反応例】Diels-Alder反応

    フロー型マイクロ波合成装置を用いた反応結果を詳しくご紹介!

    当社の「フロー型マイクロ波合成装置」は、ガラス製の蛇管を通して 対象物(液体)を流しながら全体を温めることができ、複数回の 温める工数が不要になる上に均一に加熱することが可能な装置です。 本装置を用いた、フランとアセチレンジカルボキシラートの Diels-Alder反応や、実験方法などをご紹介致します。 【概要】 ■フランとアセチレンジカルボキシラートのDiels-Alder反...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サイダ・FDS 本社

  • 横型実験管状電気炉 FT-201P 製品画像

    横型実験管状電気炉 FT-201P

    卓上に置いて即実験!小型真空炉として使用可能!ガス系等及び真空装置を接…

    【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すればCVD装置の完成 ・9パターン×9ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて16×16プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・MAX1200℃(R:t/c使用時) ・電源はA.C100V 1.3Kw 省エネタイプ ・標準でブルドン真空計付き ...

    メーカー・取り扱い企業: フルテック株式会社

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