薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

【無料進呈】ケルダールの知識を深めるポケットガイド

ケルダール法についての理解と知識を深める『18のポイント』についてご紹…

な異なる手法をご存じですか？ その他にも、窒素・タンパク質分析の全ステップについて網羅し、ポイントを簡潔にまとめています。ラボにてご活用ください！ 【掲載内容（一部）】 ■ケルダールプロセス概要 ■サンプル前処理－概要 ■サンプル前処理 ■分解－概要 ■分解－炭化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビュッヒ株式会社

【技術資料】先端材料におけるスプレードライ（噴霧乾燥）の活用

先端材料の開発において活躍するスプレードライヤー（噴霧乾燥機）のご紹介

料の研究開発において、スプレードライヤーがどのように使用されているのか、またその重要性についてご紹介しています。 【掲載内容（抜粋）】 ■幅広い先端材料の中のグループ ■セラミックの製造プロセス ■先端材料の製造におけるスプレードライ法の重要性 ■スプレードライ法による先端材料の製造 ■BUCHI製ミニスプレードライヤーを使用した研究 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビュッヒ株式会社