• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

    • IPROS3391385136135994447_220x220.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』 製品画像

    半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』

    PR±0.5%以下の測定精度で、水質管理の信頼性を向上。評価結果などの紹介…

    『UPW UniCondセンサ』は、大手半導体メーカーとの共同開発により 堅牢な構造と高度な温度補正機能を備えた比抵抗計です。 環境温度やプロセス温度の変化による測定値の変化や 信号ノイズを防ぎ、高い温度補償比抵抗精度を実現。 半導体分野における水質の正確な把握と歩留まりの向上に貢献します。 【特長】 ■±0.5%以下の測定精度を実現 ■ノイズと水質変化による干渉を区別し、高...

    メーカー・取り扱い企業: メトラー・トレド株式会社

  • 【回転トルクメータUTMII】攪拌機応用例 製品画像

    【回転トルクメータUTMII】攪拌機応用例

    【回転トルクメータUTMII】攪拌機応用例

    攪拌に伴う攪拌翼の軸にかかる負荷トルクを測定します。化学プロセスでの混合操作や反応操作により起こる粘度変動を攪拌トルク値の変動として捉えることができます。 弊社製品のTM301、F377Aを使用すると、トルクの上下限値で接点信号を出すことができます。...◆主な特長◆ ・カットオフ周波数1kHz (サンプリング周波数6kHz)の高速応答 ・許容過負荷500% ・0.05Nmから5000Nm...

    メーカー・取り扱い企業: ユニパルス株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • IPROS12974597166697767058 (1).jpg
  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg

PR