• ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • ボイドフリー最終表面処理、ICP-COAプロセス 製品画像

    ボイドフリー最終表面処理、ICP-COAプロセス

    奥野製薬工業は、回路表面へボイドフリーで、均一なめっき皮膜を形成する最…

    奥野製薬工業は、回路表面へボイドフリーで、均一なめっき皮膜を形成する最終表面処理プロセスを確立しました。 「ICP-COAプロセス」は、還元型コバルト触媒を利用した低膜厚Ni-P/Auめっきプロセスです。 本プロセスは、還元...

    メーカー・取り扱い企業: 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など

  • 回路表面へボイドフリーで、均一なめっき皮膜を形成する最終表面処理 製品画像

    回路表面へボイドフリーで、均一なめっき皮膜を形成する最終表面処理

    還元型コバルト触媒付与液を使用した銅回路上への最終表面処理プロセス!半…

    それらに使用される半導体パッケージ、プリント配線板にはさらなる高性能化と高度な接続信頼性が要求されています。 奥野製薬工業はパラジウムの代わりにコバルトを用いる触媒付与液の開発に成功し、回路表面へボイドフリーで、均一なめっき皮膜を形成する最終表面処理プロセスを確立しました。ICP-COAプロセスは、半導体パッケージ、プリント配線板の信頼性向上に貢献します。...

    メーカー・取り扱い企業: 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など

  • 【準水系工程向け 溶剤系フラックス洗浄剤】ZESTRON FA+ 製品画像

    【準水系工程向け 溶剤系フラックス洗浄剤】ZESTRON FA+

    プリント基板・パワーモジュール・リードフレーム向け洗浄剤。幅広い用途に…

    パワーモジュール、リードフレームベースのディスクリート、パワーLED のワイヤボンディング/モールディングの品質を向上 ■フリップチップ・CMOS から粘着性フラックスをすべて除去することにより、ボイドのないアンダーフィルをもたらし、画像解像度を向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 半導体ウエハ向け硫酸銅めっき添加剤・TORYZA LCN SV 製品画像

    半導体ウエハ向け硫酸銅めっき添加剤・TORYZA LCN SV

    高アスペクトフィリングに対応、シリコンインターポーザ向け硫酸銅めっき添…

    当社は高アスペクトフィリングに対応したシリコンインターポーザ向け添加剤として、TORYZA LCN SVを開発しました。 TORYZA LCN SVは、TSVへの埋め込み性に優れており、ボイドフリーかつ低膜厚で高アスペクトフィリングを実現します。...

    メーカー・取り扱い企業: 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など

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