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PR加工時の工作油の給油や設備メンテナンスの給油・給液に。ディスペンサーよ…
つるした缶から落ちる一滴ではアバウトすぎるけど、ディスペンサーほどの精密さは必要ない... 簡易型ディスペンサー『チビット』は、そんな現場に好適な滴下液体供給装置です。 水・油・薬剤・溶剤に対応しており、たらす・飛ばす・噴霧など様々な用途で使用できます。 タンクから直接吸い上げるので、液体の小分けや加圧タンクが不要。高いコストパフォーマンス発揮します。 加工時の工作油の給油や設備メンテ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社笠井製作所
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PR高圧式リングブロアーと油式回転真空ポンプの総合カタログ!
高圧式リングブロアーは吸い込む空気は螺旋軌道を描きながら圧縮室を通り、 インぺラの遠心推力により繰り返し加速される為、排気スロットで高圧が得られるようになります。 油式回転真空ポンプは精密ポンプと高い軌道トルクの直結駆動誘導電動機から成っており、 低コストと高性能により、中程度の真空を必要とする食品加工、印刷など様々な分野で使われています。 【主なラインナップ】 ■高圧式リングブロアー ・ケー...
メーカー・取り扱い企業: ユニオン産業株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max5...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけま...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御:±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm(ガス種による) ◉ ロータリーポンプ付属...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけま...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけま...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
ycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転(オプション) ・自動APC制御(オプション): -1) Upstreamコントロール:MFC供給量をPIDループ自動制御、又は -2) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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