• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

    • IPROS3391385136135994447_220x220.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 【高効率量産向け】微細高密度混載実装印刷用メタルマスク 製品画像

    【高効率量産向け】微細高密度混載実装印刷用メタルマスク

    PR【展示会にてサンプル展示予定】プリント基板との版離れ性が向上!有機溶剤…

    『ecoface』は、SUSのプリント面、開口壁面に、ディンプルを形成したメタルマスクです。 スムーズな版離れを実現することで、面内におけるはんだ体積のバラツキを抑制することが期待できます。 【特長】 ■特殊な表面によりプリント基板との版離れ性が向上 ■有機溶剤、アルカリ耐性がある ■納期は従来のメタルマスクと同等 また、2024年6月12日(水)~14日(金)に東京ビッグサイトにて 開催され...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン

  • 『基板データ復元サービス』※片面板、両面板、多層板も対応可能 製品画像

    『基板データ復元サービス』※片面板、両面板、多層板も対応可能

    回路図や外形図がなくても、フィルムや基板現物からガーバーデータを復元!…

    回路図、部品表、外形図等、資料が無くても大丈夫で、 手貼りのアートワークフィルムからもデータ作成できます。 片面板から4層以上の多層板まで多くの基板に対応しており、 部品実装データ(メタルマスクや部品座標)も作成可能です。 【特長】 ■フィルムや基板現物からガーバーデータを作成 ■回路図、部品表、外形図等、資料が無くても大丈夫 ■プロット図やDXFファイルからデータを作成で...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大泉精密

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg
  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg

PR