• ダイヤモンドライクカーボン膜(DLC)コーティング加工 製品画像

    ダイヤモンドライクカーボン膜(DLC)コーティング加工

    PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

    『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

  • Enovasense Field Sensor 製品画像

    Enovasense Field Sensor

    PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

    フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約11万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長  ・非接触で下記が測定できます。    ☆不透明体の厚みマッピング...

    メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社

  • 無電解ニッケルメッキ『ハイノップ』 製品画像

    無電解ニッケルメッキ『ハイノップ』

    1000μm以上の超厚膜メッキが可能。非球面レンズなど、多様な光学金型…

    『ハイノップ』は、高品質・無欠陥・厚付け無電解ニッケルメッキです。 1000μm以上の超厚膜メッキが可能。 非球面レンズ・フレネルレンズ・導光板・プリズムシート・光学ミラーなど、 多様な光学金型に対応します。 また、ガラス・超硬・チタン・セラミックスなどの難メッキ素材にも、 密着性を維持したまま無欠陥厚膜メッキが可能です。 【特長】 ■素材を選ばない ■全長2mのロ...

    メーカー・取り扱い企業: 共和産業株式会社

  • 共和産業の特殊メッキ 製品画像

    共和産業の特殊メッキ

    光学用金型へのメッキは非常に高精度が求められる、当社が最も得意とする分…

    当社は、特殊な分野のメッキや、 難メッキ素材へのメッキを得意としています。 アルミに対しても、密着力を維持し高い耐摩耗性を持つメッキが可能。 セラミックへのメッキは当社の得意分野で、独自の処理方法により、 高い密着力のメッキが可能です。 1点から注文可能で、熟練の技術者が、お客様のご要望に応じ一点一点、 オーダーメイドでメッキ処理いたします。 【特長】 ■特殊な分野のメッ...

    メーカー・取り扱い企業: 共和産業株式会社

  • 特殊硫酸銅メッキ『オプトカッパー』 製品画像

    特殊硫酸銅メッキ『オプトカッパー』

    切削性に優れた皮膜!バリが少なく、シャープなエッジの加工が可能と好評を…

    工が可能と好評を得ております。 また緻密な層状皮膜で切削性に非常に優れ、快削性を活かした高精度な 加工を実現します。 【特長】 ■優れた快削性と均質性 ■緻密なパターン加工 ■メッキ厚はご要望に応じ、50μm~数mmまで可能 ■少量からご注文可能 ■快削性を活かした高精度な加工が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 共和産業株式会社

  • 共和産業株式会社 技術紹介 製品画像

    共和産業株式会社 技術紹介

    共和産業は、特殊な分野のメッキや、難メッキ素材へのメッキを得意としてい…

    当社では、熟練の技術者が、お客様のご要望に応じて一点一点、 オーダーメイドでメッキ処理します。 アルミに対しても、密着力を維持し高い耐摩耗性を持つメッキが可能。 特にセラミックへのメッキは、当社の得意分野としており、独自の 処理方法により、高い密着力のメッキできます。 「このような母材にもメッキできるのか」という内容でも、ぜひ一度 お問い合わせください。 【特長】 ■1...

    メーカー・取り扱い企業: 共和産業株式会社

  • 高輝度大電流LED向け放熱基板『エムメムス基板』 製品画像

    高輝度大電流LED向け放熱基板『エムメムス基板』

    微細な三次元MEMS構造をめっきで実現!高放熱性を実現し、大電流にも対…

    『エムメムス基板』は、独自のめっき技術とMEMS技術を融合し、 さまざまな電子デバイスに対応する高輝度大電流LED向け放熱基板です。 微細な三次元MEMS構造をめっきで実現。半導体フォトプロセスにより、 パターン幅数十μm~の垂直微細メッキが可能です。 めっきによる高速成膜で厚さ50μm以上の微細三次元厚膜構造が作成可能で、 独自のシード層を用いることにより、高信頼性を実現してお...

    メーカー・取り扱い企業: 共和産業株式会社

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