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分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術!真空蒸着について解説!
蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。 お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者及び従業員一同が一体となり 情報提供し合いながら、品質の安定した安全性...
メーカー・取り扱い企業: 河合光学株式会社
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