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夏場の金型対策に!【無料】配管洗浄デモンストレーションのススメ
PR金型配管洗浄デモンストレーションを日本全国無料で実施中!配管内を内視鏡…
\本格的な夏到来!/ このようなお悩みはありませんか? ●糸引き、ヒケ、反りといった成形不良率の増加 ●歩留まり率の低下 ●成形品の冷却時間の延長 ●成形サイクルの長期化 ●電気代、水道代、材料費の増加 原因は、温調配管(冷却管)に詰まったアレ! 配管洗浄でスカット解決! \夏場の金型対策に!/ 日本全国無料で実施中! 【1】無料!内視鏡チェックサービス ...
メーカー・取り扱い企業: ソマックス株式会社
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残圧下で簡単接続!液だれほぼ無しストーブリの大口径カップリング!
PR着脱時の液だれがほぼゼロ【ノンスピルカップリング】 / 圧力損失がほぼ…
【大口径ノンスピルカップリング】 製品名:【TCH】 / 【TCB】 / 【TTX】 (全3種類) 残圧下6barまで簡単に接続可能!着脱時の液だれほぼ無しを実現!ハンドルを回して簡単着脱の大口径カップリング! <特長> ・着脱時の液だれ/エア噛み/コンタミ混入ほぼゼロのノンスピル構造で、現場や作業者の安全を守ります ・誰でも簡単にハンドルを回すだけで接続を可能にしたストーブリ独自の技術...
メーカー・取り扱い企業: ストーブリ株式会社
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水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です
スト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…
■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:90~110℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/1tコンテナ/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
の他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能!電子工業の業界で使用…
の程度にあわせて処理条件を変更可能です。 【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能 ■容量・荷姿は20kg缶~ローリーをご用意 ■フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤 として効果的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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