• 野菜包装用フィルム「カルフレッシュ」 製品画像

    野菜包装用フィルム「カルフレッシュ」

    PRホタテ貝殻の微粉末を配合したOPPフィルムです。フィルム表面がアルカリ…

    「カルフレッシュ」はホタテ貝殻の微粉末を配合したポリプロピレン(OPP)フィルムです。フィルム表面がアルカリ性となり、細菌を不活性化し、の増殖を防ぎます。 「カルフレッシュ」は廃棄物の削減を通じてSDGsに貢献します。 ・廃棄物として処理されるホタテ貝殻の活用 ・細菌の不活性化による食品ロス削減 詳細は、カタログをダウンロードしていただくか、お気軽にお問合せください。...ラインナ...

    メーカー・取り扱い企業: 王子グループ 機能材カンパニー

  • ガスの切替”自動化”のご提案<基礎知識と製品をまとめた資料進呈> 製品画像

    ガスの切替”自動化”のご提案<基礎知識と製品をまとめた資料進呈>

    PR「ガス自動切替器とは?」「ガスの切替を自動化するメリット」等、ガス切替…

    当社は、ボンベ内のガスが無くなると、自動で別のボンベに切り替える『ガス自動切替器』を幅広く取り扱っています。本資料では「ガス自動切替器とは?」「ガスの切替を自動化するメリット」等ガス切替の自動化のために必要な知識と、製品ラインアップをご紹介しております。 【水素用Air作動弁のご紹介】 ■大口径、高圧、水素用Air作動弁 ■型式:AV-20NSC-70-80SW ■流体:水素を含む可燃...

    • 80A_Air作動弁_AV-20NSC-70-80SW_画像.jpg

    メーカー・取り扱い企業: ヤマト産業株式会社

  • 超小型真空リフロー炉 TR-125V2 製品画像

    超小型真空リフロー炉 TR-125V2

    超小型真空リフロー炉の決定版!!

    酸化を防止してリフローが可能! ■超軽量・コンパクト設計で、Labにも設置しやすい世界最小クラス! ■真空・窒素パージが可能ですので、ボイドや半田ボールの発生を低減する事が出来ます。※N2等の不活性ガス雰囲気を長時間維持 ■PID制御による高い温度コントロール性!(推奨ホットプレート:アズワン ND-1Aと組み合わせた場合) ■ガラス窓の採用により、リフロー炉内の基板の状態の確認が容易 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タイセー 本社

  • 高出力IR光源 HISpower 製品画像

    高出力IR光源 HISpower

    TO-8パッケージの高出力赤外線源

    射パワーが特徴です。 ハーメチックハウジング技術により、はんだ付けされたサファイア、CaF2、BaF2ウィンドウは過酷な環境下での使用も可能です。 ハーメチックシールにより、パッケージ内に特殊な不活性ガスを充填可能。省エネルギー化を実現しました。 他のCANタイプ、SMDタイプのIR光源の取り扱いもございます。 詳しくは弊社担当まで...

    メーカー・取り扱い企業: オプトシリウス株式会社

  • 高性能のまま低価格を実現!『単結晶育成引上工程用ロードセル』 製品画像

    高性能のまま低価格を実現!『単結晶育成引上工程用ロードセル』

    【CZ法単結晶育成装置用】種付けから回転引上げ、インゴット完成まで重量…

    キー(CZ)法による引上げ装置の重要なセンサとして使用できるよう、ロードセル検出部には独特の荷重センサを用いました。 ロードセルの使用温度範囲では補償回路の働きにより、ロードセル自体では冷却用の不活性ガスを必要としません。 【特長】 ◆ノイズに強い対策実施で低リップル  広帯域の電気的ノイズ防止を徹底的に追求した回路設計。低リップルの安定した性能を実現 ◆速い応答周波数  高速化...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テンサー センサーシステム事業部

  • ガス置換キャンシール実験サービス 製品画像

    ガス置換キャンシール実験サービス

    キャンパッケージ内ガスを変更し実験用サンプルを作製サービス

    当社では、「ガス転換キャップシール実験サービス」を提供しています。 キャンパッケージ内のガスを大気から別のガスに変更するサービスです。 ガスセンサーなど特殊な実験用途で、キャップ内のガスを不活性ガスなどに変換し、シールすることが可能です。 キャップ内のガスを選択できるため、実験の信頼性や精度を向上させることが可能です。 電極およびその周辺構造を治具として設計作製する必要があり...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社佐用精機製作所

  • 【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価 製品画像

    【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

    高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

    半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

1〜5 件 / 全 5 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg