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  • 薬液供給装置（連続式）　P112 製品画像

    薬液供給装置（連続式）　P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　 製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

  • ワーク計測用タッチプローブ TS 150 製品画像

    ワーク計測用タッチプローブ TS 150

    研削盤向けタッチプローブ

    御装置と接続 ・限られたスペースの加工エリア用 ■仕様 ・プローブ精度(方向特性): ≦±5μm ・繰り返し再現性: 2σ≦1μm ・測定力: 軸方向約7N、半径方向約1N ・供給電圧: UTI 150インターフェース経由 ・保護等級: IP 68...

    メーカー・取り扱い企業： ハイデンハイン株式会社

  • ワーク計測用タッチプローブ TS 260 製品画像

    ワーク計測用タッチプローブ TS 260

    ケーブル通信式の高精度タッチプローブ

    ターフェース搭載 ・手動による工具交換の工作機械向け ■仕様 ・プローブ精度: ≦±5μm ・繰り返し測定精度: 2σ≦1μm ・信号伝送: ケーブル(軸方向または半径方向) ・供給電圧: DC 15V～30V / ≦100mA(負荷なし) ・保護等級: IP 68...

    メーカー・取り扱い企業： ハイデンハイン株式会社

  • ワーク計測用タッチプローブ TS 750 製品画像

    ワーク計測用タッチプローブ TS 750

    研削盤向け高精度タッチプローブ

    状況をインプロセスで検査・監視可能 ■仕様 ・プローブ精度(方向特性): ≦±1μm ・繰り返し再現性: 2σ≦±0.25μm ・測定力: 軸方向約1.5N、半径方向約0.2N ・供給電圧: UTI 150インターフェース経由 ・保護等級: IP 68...

    メーカー・取り扱い企業： ハイデンハイン株式会社

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