• 薬液供給装置(連続式) P112 製品画像

    薬液供給装置(連続式) P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 【用途事例】液体注入ディスペンサー保温用ヒーター 製品画像

    【用途事例】液体注入ディスペンサー保温用ヒーター

    材料タンク、ハンドガンなど!管理したい容器やシリンジにも合う様々な形状…

    液体注入ディスペンサー保温用ヒーターとして、 『シリコンラバーヒーター』を導入した事例をご紹介します。 「供給する液体の温度が、入口と出口で変わってしまう」「機械が 温まるまで、作業が出来ない」などが、従来の問題点でした。 当製品は、段取りを少しでも早くするため、電気ヒーターで簡単に ヒートアップ。また、...

    メーカー・取り扱い企業: オーエムヒーター株式会社

  • 【用途事例】金属焼付け加工・組立加工 製品画像

    【用途事例】金属焼付け加工・組立加工

    ラバーヒーター周辺部品のアッセンブリまで可能!組立工程の短縮に繋がりま…

    を検討したい用途 ・シリコンの接着材をあまり多用できない用途 ■従来の問題点 ・ラバーヒーターの温度をもう少し高くしたいけど密着度合いが心配だ… ・ヒーターの取り付け作業が面倒だ、ASSYで供給してくれないかな… ・ヒーター取り付け用のシリコン接着剤はあまり多用したくないな… ■適応製品:シリコンラバーヒーター 標準タイプ、Eタイプ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

    メーカー・取り扱い企業: オーエムヒーター株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

PR