リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

顕微鏡用ナノ位置決めステージ『DOF-5』

PR低コストで高性能！画像の安定性を維持しながら高速なステップと整定を実現…

『DOF-5』は、光学イメージングアプリケーション向けに最適化された 低コストで高性能なナノポジショニングステージです。 移動量（5mm）と帯域幅（225Hz以上）が大きく、画像の安定性を維持しながら 高速なステップと整定を実現。 また、ボリュームディスカウントが利用可能です。 【特長】 ■高価な顕微鏡用ピエゾステージの代替品として登場 ■ボリュームディスカウントが利用可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キーストンインターナショナル

IBSコート光学系 ::::: GTIミラー

ネガティブ群遅延分散（GDD）-20fsから-2000fsが可能です。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。...● ネガティブGDD　-20fs ～-2000fs（ポジティブも提案可能） ● >100nmのワイドなスペクトル幅 ● 低い第3次分散 ● S波・P波ともに >99.95% ...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

IBSコート光学系 ::::: 266nm波長セパレータ

IBSコーティング・波長266nm高反射>99.5%・532nm＋10…

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm C...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

IBSコート光学系 ::::: 薄膜ポラライザ

消光比 3000:1 を実現します。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。...● 消光比 3000:1 を実現（max） ● 用途により最適化：反射率 Rs>99.95% or 透過率 Tp>99.95% ● 45°, 56°, 72°といった様々な入...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社