特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

滴下液体供給装置簡易型ディスペンサー『チビット』

PR水、油、有機洗剤、酸、アルカリ水溶液、メッキ液、スラリー等適用可「重力…

『チビット』は、「滴らす」「飛ばす」「噴霧」の3つの働き、水・油・薬剤・溶剤もOKの液体滴下装置です。 ある程度の精密性と応答性が必要な場合は電磁ポンプタイプを！ 適応粘度は200cp程度まで。 粘度が高い液体とスラリー性質の場合はチューブポンプタイプを！ 適応粘度は1000cp程度まで 【特長】 ○入力時間の短・長にかかわらず一定時間滴下動作を行う ○装置連動・簡易充填...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社笠井製作所

素材表面の洗浄・改質に効果あり! 紫外線洗浄改質装置

照射サイズ400×400mm卓上型洗浄改質装置

法：750×920×1175mm（突起物を除く）　■重量：約210kg ■使用ランプ：EUV200NS-**×6本 ■照射エリア：約442×450mm ■トレイサイズ：620×550×70mm ■入力電源：単相200V　15A　 ■ダクトホース：φ75mm　3ｍ×１本付属 ...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

素材表面の洗浄・改質に効果あり! 紫外線洗浄改質装置

シャッタータイプの卓上型洗浄改質装置

×520×495mm（突起物を除く）　■重量：約60kg ■使用ランプ：EUV200GS-**×1本 ■照射エリア：約160×180mm ■照射距離：40(Min)～59(Max)mm ■入力電源：単相200V　3A　 ■別置きブロワー：NK2NL-2＆ダクトホース付属 ...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社