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PRバッテリー・保冷材は不要!『水』のみを利用して体を冷却する環境にも配慮…
BODYCOOL SMART-Xは独自の気化熱冷却システムによってバッテリーや保冷剤を使用せず、体を長時間冷却できる新タイプの冷却ベストです。 使い方は簡単! 背面のバルブから水(Max500ml)を注水し、製品全体になじませ、余分な水を排水して着用するだけ。 注水後すぐに効果を発揮し最長で72時間持続します。 【メリット】 ■ボディー全体を優しく冷却するため体に負荷をかけることなくパフォーマ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スリーライク
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PRユニットバスタイプの小型浴槽から大型コンクリート浴槽(タイル・石張り)…
「サウナ用の水風呂」 ・浴槽ろ過装置 ・冷却熱源システム(チラー) ・圧力式水位制御 ●水風呂にろ過装置をお奨めする理由 水風呂は温度が低いので汗や皮脂などの汚れが凝固しやすく、白濁してしまします。ろ過装置がない場合はすぐに白濁してしまうため頻繁に浴槽水を入替・清掃する必要があります。そのため清掃作業の手間と水道代が多くかかります。 上水道(水道水)は季節により温度変化がありま...
メーカー・取り扱い企業: サイエンス株式会社
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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6月発売開始の水冷式冷温調機を出展!金型向け温調装置各種、8℃…
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