• 冷熱ブライン循環装置『ブラインチラー』【精密な温度制御!】 製品画像

    冷熱ブライン循環装置『ブラインチラー』【精密な温度制御!】

    PR循環ポンプ1台で冷却加熱ブラインを供給!ブライン供給配管の切替作業不要…

    ブラインチラーは、「試験装置・温度制御用」「半導体・完成テスト用」を ご用意した冷熱ブライン循環装置です。循環ポンプ1台で-100℃~+100℃ のブラインを供給します。ブライン供給配管の切替作業は不要です。 【仕様】 ■冷凍方式:混合冷媒・マルチカスケード方式 ■加熱方式:電気ヒーター・ホットガス加熱方式 ■循環ポンプ・ブラインタンク内蔵  ◎循環量:10~20L/min ◎揚程:10~15m...

    • image_11.png
    • image_12.png
    • image_13.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マック

  • 各ランプの光量制御で待機電力削減に貢献!『電子点灯UV照射装置』 製品画像

    各ランプの光量制御で待機電力削減に貢献!『電子点灯UV照射装置』

    PR【省エネ・電力削減】 各ランプ毎に光量調節が可能で10Aタイプの国産及…

    ADPECが提供する電子点灯式UV照射装置は、従来のトランス式の電源を登載したUV照射装置を進化させ、 電子制御方式の電源ユニットを搭載した新UV照射装置です。 本製品はUVランプの調光が可能となり、その範囲は最大10%~100%となっておりますので、 塗装ラインの始動時やセット替え時は10~20%近辺で点灯する事により、待機電力の大幅な削減が可能となります。 また、ランプを複数本...

    • UV10.png
    • 三灯UV固化机-2.jpg
    • PHE01 (1) (3).png
    • UV.png
    • UVハウスカバー.png
    • ランプユニット01.png

    メーカー・取り扱い企業: J-one(株式会社アドペック/ヤマシン技研株式会社)

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

    【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    oカバー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃(SH-BN), 850℃(SH-IN) ◎ 短時間昇温 ◎ 面内温度分布 ±2%以内 ◎ 制御精度・再現性±1℃ ◎ 低価格 ◎ 短納期(標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • ipros_bana_提出.jpg
  • IPROS12974597166697767058 (1).jpg

PR