特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

近赤外線ヒーター（ヒートビームシリーズ）

PRハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速…

近赤外線ヒーター　ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

温度制御システムタンク 20L 蓋昇降機付

加熱して一定の安定した温度で攪拌！蓋の昇降はハンドルを回すだけで簡単に…

の昇降はラチェット式ウインチのハンドルを回すだけで、簡単。 ドレンバルブは、攪拌のデッドレスのタンクボールバルブが付いています。 また、真空に引いて攪拌脱泡もできます。 【特長】 ■加熱して、一定の安定した温度で攪拌 ■加圧して次のラインに圧送 ■攪拌のデッドのないタンクバルブ ■真空脱泡攪拌も可能 ■蓋の昇降が簡単 ■洗浄し易い ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： 加藤ステンレス科学株式会社

恒温油槽 循環ポンプ付き『T-201P』

ラボスケール、小容量の溶液を加熱制御するのに好適な恒温油槽のご紹介！

『T-201P』は、循環ポンプ付きの恒温油槽です。 ラボスケール、小容量（5L）の溶液を加熱制御するのに好適。 当製品単独では200℃まで制御可能ですが、タンクとセットされた装置は、 タンクドレンバルブ、攪拌シール部、保温等の関係からMAX150℃になります。 【仕様（抜粋）...

メーカー・取り扱い企業： 加藤ステンレス科学株式会社

密閉ジャケットタンク『RKJSW』

ニーズに合わせて設計、製作！スイングボルト締めで開閉が簡易的な密閉型ジ…

『RKJSW』は、フランジタイプの密閉型ジャケットタンクです。 スイングボルト締めで開閉が簡易的。 加熱、反応しベーパーが発生する場合は、開放口を設け、ベーパーを 開放してください。 また、オプション部品をつけると真空及び加圧圧送タンクとして 使用可能です。 【特長】 ■フランジタイ...

メーカー・取り扱い企業： 加藤ステンレス科学株式会社