• 化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

    実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 GaAs用のホットプレートタイプに比べ高温(900~1000℃)まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』 製品画像

    アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』

    ウェハやガラス等の多種基板の処理可能 幅広い用途対応した可変雰囲気熱処…

    ストをお受けしております。 仕様詳細や対応可能なテスト内容などにつきましてはお問い合わせください。 【特長】 ■各種雰囲気(真空、N2、O2、H2)での均一な加熱処理(~900℃) ■加熱炉体の移動による急速冷却 ■石英チューブによるクリーン雰囲気中処理 ■幅広い用途への対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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