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PR要求の厳しい用途に対応する産業用グレードの性能
・最大10Wの高出力 ・超低強度ノイズ ・高いビームポインティング安定性 & 安定したビーム品質 ・ターンキー、メンテナンスフリーの信頼のあるシステム...半導体産業における高性能計測などの産業アプリケーションや量子コンピューティングのアプリケーションには、極めて安定した信頼性の高い高出力レーザー光源が必要です。 ALS-VISシリーズは革新的なファイバー技術をベースにしたレーザーとアンプで、特...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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PR微細孔セラミックス:最小孔径Φ0.02mmの制作が可能
一般的にドリル加工やレーザー加工では、直径1mm未満の細孔の場合、 アスペクト比(深さ/内径)が10以上の深孔は困難とされています。 弊社は高度な押出成形でアスペクト比200以上の物まで製作可能です。 また、自由な肉厚で製作でき、変形や偏肉が生じやすい「薄肉パイプ形状」であれば 肉厚0.1mm、長さ100mm(外径Φ1.3mm時)の製作も出来ます。 材質はアルミナ、ジルコニア...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パイロットコーポレーション
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【無料デモ実施中!】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現!作業…
「MDC8540L」は、パワーデバイスや青色レーザーダイオード、青色LED等の化合物半導体製造用MOCVD装置の治具に、成膜時に堆積するGaN、AlN等のドライエッチング方式で洗浄するMDCシリーズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メープル
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ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減!ウェット洗浄に比べて大幅な時…
GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。 ★☆★【無料デモ】実施中!!★☆★ 【特徴】 ●GaN成膜装置に使用する各種冶具のドライ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メープル
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