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PR微細孔セラミックス:最小孔径Φ0.02mmの制作が可能
一般的にドリル加工やレーザー加工では、直径1mm未満の細孔の場合、 アスペクト比(深さ/内径)が10以上の深孔は困難とされています。 弊社は高度な押出成形でアスペクト比200以上の物まで製作可能です。 また、自由な肉厚で製作でき、変形や偏肉が生じやすい「薄肉パイプ形状」であれば 肉厚0.1mm、長さ100mm(外径Φ1.3mm時)の製作も出来ます。 材質はアルミナ、ジルコニア...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パイロットコーポレーション
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PR超純水(UPW)の連続モニタリングが可能。サンプリングや培養が不要。環…
オンライン微生物検出分析装置『7000RMS』は、超純水(UPW)などの 高純度の水の微生物汚染をリアルタイムで検出する製品です。 レーザー誘起蛍光とミー散乱技術により、微生物を迅速に検出し、 半導体やマイクロエレクトロニクス製造での超純水の高品質維持に寄与。 サンプリングや培養が不要で、製造プロセスの遅延リスクを排除するほか、 消耗品を使用しないため廃棄物の発生もなく、環境負荷...
メーカー・取り扱い企業: メトラー・トレド株式会社
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コストパフォーマンスに優れたパルスジェネレーター搭載LD用電源
種光源向けに設計されたLDドライバーです。 バタフライパッケージの半導体レーザモジュールに対応。 バルス幅を最小500psからCW(連続波)までの範囲で制御できます。 当製品にはパルスジェネレータが内蔵されているため、外部TTL信号からの要求に応じて高精度パルスを発生させることも可能です。...【製品の特徴】 ・ピーク電流:最大1500mA、3500mA、9000mAの複数モデルをライ...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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特殊な波形を生成可能なパルスジェネレータ搭載LD用電源
ドに対応したソケット(ご要望に応じてタイプ2をご提供いたします) ・0〜20MHz反復率のパルス形状を500psから8μsの範囲でユーザーが設定可能 ・TEC(熱電)コントローラーを内蔵、半導体レーザーの過熱を防止し安定化 ・レーザーダイオード「ゲインスイッチピーク」抑制のための特別モード ・内部またはリモートトリガリングによる組み込まれたAWG(任意波形発 生器) ・3つのパルスディ...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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レーザーの自在なタイミングコントロールをこのパルスジェネレーター1台で…
ろを、この1台で広くカバーすることが可能です。 この装置は、ナノ秒単位の高周波数パルス、ディレイ、バーストを生成可能です。複数の装置を同期させて使用することも可能です。 電子機器や半導体レーザー、カメラの試験及びタイミング制御に有用です。 【製品の特徴】 ・ディレイ分解能:10ps ・RMSジッター:80ps ・最小入力電圧:30mV(オプション<10mV) ・15...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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